【免費報名】GDS Layout Workshop
隨著半導體產業的高速發展，IC設計人員正面臨著嚴峻的技術與產品上市時間的挑戰，一個高效且易用的設計平台扮演了關鍵的角色。因此，我們規劃了這場L-Edit Workshop，為您打破迷霧，走向高手之路！
活動分為兩階段，分別是基礎及進階，基礎課程中，我們將介紹L-Edit的實用技巧，也將進一步帶你了解L-Edit的強大優勢所在。實體活動現場更有實作練習及測驗環節，讓您透過親身操作深入理解工具的核心。而在進階課程中，我們準備了L-Edit的最新增強功能，內容涵蓋編輯群組、選擇管理器、UPI指令、FinFET特性支援、Layout著色管理等主題，幫助您提升設計效率！
活動單位：恩萊特科技股份有限公司 & Siemens EDA
活動對象
- L-Edit用戶優先報名
- 晶片 GDS Layout 工程師/經理/主管
- IC 設計、IoT物聯網、MEMS微機電、Power Devices功率元件(第三代半導體, SiC/ GaN/MOSFET/IGBT)、被動元件Mask、OSAT 封裝(RDL/GDS Layout)、矽光子等相關設計開發
活動日期
議程大綱
基礎
- L-Edit 平台基本介紹
- Setup Colors: Drawing color
- Setup Application: Keyboard, Mouse…
- Setup Design: Grid …
- Setup Layer: Palette…
- Import/Export database
- Create new design and cell 創建新設計
- Drawing Tool Bar
- Editing functions
- Boolean 布林運算
- Chamfer/Fillet 導圓角/導直角
- Align 對準功能
- Q & A
進階
- What’s New in Tanner L-Edit v2023.2?
- Advanced:
- Photonics Features 矽光子設計流程
- Integration with MEMS Pro MEMS 設計流程
- Parametric cell/T-Cell 參數化設計單元套件設計
- TCL/Python Script 加速自動化
- Node Highlighting 連線確認
- Pad Cross-Reference
- Wafer tool
- Tanner DRC & Calibre integration
- Q & A