在 GDS Layout 設計流程中，您是否曾因工具設定與操作細節不熟悉，導致效率低落或設計品質受影響？

本次線上研討會，將以 L-Edit 為主軸，針對實務中常見問題，帶領學員深入掌握從環境配置、繪圖操作到資料匯出等關鍵流程，協助工程師全面優化使用體驗。

📌 活動資訊

• 活動時間｜ 2025 年 5 月 22 日（四）10:00–11:30
• 活動形式｜ 線上研討會
• 主辦單位｜ 恩萊特科技股份有限公司（Siemens EDA 授權代理商）

🎯 適合對象

• 使用 L-Edit 進行 GDS Layout 的 IC 設計工程師與技術經理
• IoT、MEMS、功率元件（SiC/GaN/MOSFET/IGBT）、被動元件 Mask、封裝設計（RDL/GDS）、矽光子等相關設計團隊

🔍議程摘要

• L-Edit 工具介面與工作區域介紹
• 快捷鍵、自訂滑鼠與圖層設定技巧
• Grid、單位、解析度設定
• GDSII 資料的匯入與匯出實務
• Cell 建立與繪圖工具應用
• 編輯操作、布林運算、倒角/圓角與物件對齊功能
• Q&A 實務問答交流

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