「台灣第一次157nm光學微影技術研討會」
2001-11-22
半導體產品相關技術的發展無疑是支撐快速發展的高科技產業向前推進的主要動力,即使是在全球景氣普遍低迷的2001年,國際大廠在先進技術的研發腳步仍舊未曾停歇,即將舉行的「台灣第一次157nm光學微影技術研討會」,邀請國際知名研發單位人員來台分享最新微影技術成果,對國內半導體製程技術的開發深具積極正面之意義。

根據美國半導體產業協會(SIA)公佈的微影技術發展藍圖(lithography roadmap),以及"下一代微影術(NGL)"委員會的資料,真空紫外光光學微影術(含光學延伸技術)是至少未來5年內的主要曝光技術,而以準分子雷射波長為157nm為光源的微影術,是目前公認最有可能達成70奈米節點的量產技術。世界各大化工廠、步進機製造廠、國家實驗室、各大公司研究機構與著名大學,莫不投入研發此一策略計畫。而國內IC產業非但是我國經濟主軸且表現亮麗,舉世矚目。可惜的是下一代關鍵性的157nm微影技術,在國內卻極度缺乏專業人才,學界研究亦是零星散落。有鑑於此,乃結合學、產、官研之共同力量,規劃舉辦「台灣第一次157nm光學微影技術研討會」,特別邀請國際學者專家來台,就此領域作一深入之演講授課,期能裨益國內相關技術的研究與發展。

此次受邀來訪的學者專家,在其研究領域皆有超過十年經驗,甚且終生在微影製程領域上鑽研,能百忙中應邀來台,非常難得。二天的時間共計將有六場演講,分別就157nm微影術之主要課題:157nm微影術現況與前瞻、材料光學特性與清潔度的影響、光學元件與曝光系統、影像增益技術、相位光罩、雷射進展等做一完整且深入的分析,精彩可期。

本研討會由國立台灣大學電資學院光電所/電機系主辦,台灣半導體產業協會協辦,預計將繼去年舉辦193nm光學微影技術研討會獲得廠商普遍迴響之後,再度協助廠商在製程技術上的進行先進專業之交流,為產業創造最佳綜效。

「台灣第一次157nm光學微影技術研討會」將於90年11月29-30日假國立台灣大學工學院綜合大樓國際演講廳舉行。

(新聞聯絡人:黃麗卿 03-5913560)